【卖】硅片蚀刻设备

设备名称　　硅片蚀刻设备　　用于半导体工艺中对硅片蚀刻。
规格尺寸　　长 3000mm　　宽 1800mm　　高 1780mm
主要材质　　壳体：德国进口PP板，
槽体：NPP 板
产品特点　　1.超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。
2.工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下 料。结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。
3设备超声，加热清洗时间由定时器控制。加热槽装有温控表（pompon）和传感器。
4.每个清洗槽互不影响，超声、冲洗清洗槽的上给水（冲洗清洗槽配有热水）、下排水为手动方式。　
5.配有可调节式的排风装置。
备　注　　1.电控部分采用密封保护方式配有紧急停机及报警装置。