【卖】激光刻膜机

SEF-G5：激光刻膜机

产品特点:
　　　　 半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器
　　　　 膜面朝上非接触式工作台
　　　　 直线电机驱动
　　　　 四路同步输出
　　　　 自动识别跟踪定位
　　　　 自动进出料
　　　　 在线监测
　　　　 静态显示

技术参数:
型号规格　　SEF-G5
有效加工幅面　　1.1m×1.4m（或635mm×1245mm　　）
最大运行速度　　　　2000mm/s　　
重复定位精度　　　　±10μm　　
刻线直线度　　　　±10μm / 1000 mm　　
典型刻膜线宽　　　　30～60μm　　
三线外沿总宽度 　　300～500μm　　
　
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。

应用和市场：
非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。