【卖】磁控溅射镀膜设备

主要用途
设备的沉积工艺在电导膜、光学膜、保护膜、装饰膜等方面有广泛的应用，适用于塑料、陶瓷、玻璃等材料上的金属化镀膜。
主要组成
设备由镀膜室、磁控靶、卡具、真空机组、控制系统、电源、辅助装置等组成。
主要特点
★具有先进的沉积工艺，基片升温低，沉积速率高。
★大抽速的真空机组，缩短完成镀膜工艺的节拍。
★选择性强，采用不同的磁控源和数量，满足多层膜的工艺需求。
★适应性强，适合科研、生产企业的大、中型生产线。
★设备具有过滤、停水、欠压等保护装置及电气互联锁功能。
获奖项目
JT-8型、JT-8A型、JT-12型获市、局科技进步一等奖。
MS-8型获省科技成果二等奖。