【卖】高温实验炉

CVD（G）系列真空高温管式炉专门设计用于高温CVD工艺,如ZnO纳米结构的可控生长、氮化硅渡膜、陶瓷基片导电率测试、陶瓷电容器（MLCC）气氛烧结等等。 窑炉采用氧化铝纤维制品隔热、保温，国产优质硅钼棒加热，优质刚玉管炉膛, 系统可预抽真空，气体采用浮子流量计控制。进口单回路智能温度控制仪控制，设备具有温度均匀、控制稳定、升温速度快、节能、使用温度高、寿命长等特点，是理想的科研设备。　　　　　　　　　　
一、　　技术指标：
设　备 型 号　　NT-CVD(G)-08/50/1

温区最高温度　　　1650℃；(最长恒温时间：≥10小时)；常用温度：1600℃ (最长恒温时间：≥100小时)　

加热有效容积　　Φ72（内经）×500mm;恒温区尺寸：Φ72（内经）×250mm　
炉管实际尺寸　　　Φ80（外径）×1400mm （国产优质刚玉管）
炉 膛 材　料　　　氧化铝纤维制品

控制温区点数　　1个，1支B分度热偶
设备温场温差　　±1℃ ，日本岛电进口40段程序控制仪表(1只)
加 热　元 件　　　　优质硅钼棒

最大加热功率　　　　12Kw
保 温 功　率　　　 5kw
最大升温速率　　　3℃∽10℃/min;
　最大降温速率　　3℃∽7℃/min

　　　　
温度均匀性　　±3℃(有效范围：Φ72×250mm)

气路配件材料　　　气路配件材料，端头不锈钢发兰密封，
一路气体采用浮子流量计控制，
所有管道和阀门采用不锈钢元件
极 限 真　空　　　≤10Pa（常温） ,一级机械泵（配电磁阀）。

压升率　　≤5Pa/h
　　　　　　　　　　　　
　　　
1000时可抽真空，能通保护氮气
外型参考尺寸　　1250（L）×1650（H）×650（D）mm
输入动力电源　　单相电源，50HZ ，220V±10%；10KW
炉体表面温升　 ≤45℃