【卖】深圳微弧氧化设备

氧化设备行业第一服务品牌，注册资本达1000万，通过ISO9001：2008国际质量管理体系认证，主要产品有铝卷氧化设备，阳极氧化设备，硬质氧化设备，微弧氧化设备，已成功服务多家知名企业：美的电器，长城制冷，上海亚细亚，西飞发电机等全国免费热线：4000138068
微弧氧化设备技术的基本原理
微弧氧化设备技术是一种直接在阀金属（如铝、镁、钛等）表面原位生长陶瓷层的新技术。将铝、镁、钛等合金试件放入电解液中，通电后表面立即生成一层较薄的高阻抗氧化膜，当作用在氧化膜表面的电压达到某一数值时，电解液里的样品表面能观察到无数游动的弧点，这表明氧化膜某些薄弱部位被击穿，发生的微区弧光放电。由于击穿总是在氧化膜相对薄弱的部位发生，当氧化膜被击穿后，在膜内部形成放电通道，基体金属离子和氧离子在放电通道中结合，形成熔融氧化物，当放电通道中的弧光点熄灭后，放电通道中的熔融氧化铝冷却凝固，这样由于一个放电过程终止，当其耐压能力高于表面其它位置时，外加电压必然会引发陶瓷层其它薄弱部位的击穿放电，整个过程循环往复。在初始阶段，样品表面游动弧点较小，形成的氧化膜表面微孔直径较小。随着氧化时间延长，陶瓷层厚度增加，击穿变得越来越困难，试样表面弧点数量减少，但弧点增大、亮度增强。在表面氧化膜击穿放电过程中，一方面在高温高压下陶瓷层内部氧化物原子不断扩散以形成不同晶型，并且部分氧原子通过击穿时产生的放电通道进入基体内部与基体金属离子结合，生成新的氧化物陶瓷；另一方面，少数的熔融氧化物从放电通道中喷射出来并到达与电解液接触的陶瓷层表面，喷射出来的熔融氧化物和重熔后的氧化物在电解液的“冷淬”作用下迅速凝固，形成“火山喷射状”表面形貌。
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