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馗鼎DLC/PVD纳米复合硬质涂层设备
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馗鼎DLC/PVD纳米复合硬质涂层设备
1.等离子体辅助化学气相沉积系统(PECVD)：
系统主要分为：DLC系统(PEC500)、Me/DLC系统(PEC500-S)
1.1 DLC专用设备(PEC500)
DLC涂层采PECVD技术制备，涂层细致且平滑，有别于arc/sputter系统制备的Me-DLC。表面平滑程度可应用至光学模具等级之范畴。
单层DLC涂层专用机型，自制核心技术，无需金属中介层，与基材附着性优异
制程温度<250℃，基材限制少
非铁合金切削性能优异，与白刀相比，寿命增益高达2倍以上。高光铝用刀应用等
应用范畴：模具(塑料射出、粉末冶金、铝挤型、光盘)、生医、封装、自润磨耗零组件、装饰性表壳、机壳等。
1.2Me/DLC设备(PEC500-S)
整合Sputter PVD及PECVD技术，可制备纳米复合Me/DLC涂层。
以Sputter系统制备具细致柱状结构之金属氮碳化物涂层并额外提供PECVD系统之平滑磨润之DLC膜层，可延伸应用至需耐冲击磨耗之应用场合，如：冲压/锻造/整平模具、冲棒、汽车零组件等。
PVD Sputter系统为非平衡磁控溅镀系统，可增加其镀膜区域之离子浓度、靶材电流密度提高、结构较为致密平整、沉积速率也较平衡式系统高。可制备高质量之PVD功能性涂层。
复合系统具备弹性且应用较广之功能性
2.阴极多弧系统(欧洲技术)：
系统分为圆形靶系统(PVN500-C8、PVN650-C12)、矩形靶系统(PVN500-R4)
系统均采八边形不锈钢腔体，系统设计优化，不仅加热均匀，在不换靶材情况下，可制备超过5种以上涂层种类。
夹层式水路冷却，可均匀冷却腔体制程受热状况，有效提升腔体使用年限
真空零配件均采进口组件，设备稳定性高
搭载进口超高真空全磁浮真空涡轮帮浦，可抽至5*10-5torr。
特殊几何形状档板(遮蔽靶源)，避免靶材的污染
8轴3转公自转机构，产能大且膜层分布均匀。Ex：D6*L50的立铣刀，在500型产能可高达2400pcs。
置具台车方便Loading/Unloading生产，增加日产能，进而降低生产成本
全自动化镀膜生产，可远程网络诊断及程序除错，避免不必要的专人看顾
标准涂层种类：TiN、CrN、TiAlN、AlTiN。
特色化涂层种类：ZrN、TiX-H、R7、AlTiCrN、AlCrN、AlTiSiN、TS(配合PECVD)、TA(配合PECVD)。
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